La elektronradia vaporiĝa metodo estas speco de vakua vaporiĝa tegaĵo, kiu uzas elektronajn faskojn por rekte varmigi la vaporiĝan materialon sub vakuaj kondiĉoj, vaporigi la vaporiĝan materialon kaj transporti ĝin al la substrato, kaj kondensi sur la substrato por formi maldikan filmon.En la hejtiga aparato de elektrona fasko, la hejtita substanco estas metita en akvomalvarmigitan fandujon, kiu povas eviti la reagon inter la vaporiĝa materialo kaj la krisolmuro kaj influi la kvaliton de la filmo.Multoblaj krisoloj povas esti metitaj en la aparaton por atingi samtempan aŭ apartan vaporiĝon kaj deponadon de diversaj substancoj.Kun elektronradiovaporiĝo, ajna materialo povas esti vaporigita.
Elektronradiovaporiĝo povas vaporigi alt-fandpunkton materialojn.Kompare kun ĝenerala rezista hejtado-vaporiĝo, ĝi havas pli altan termikan efikecon, pli altan traban kurentdensecon kaj pli rapidan vaporiĝrapidecon.Filmo kaj filmo de diversaj optikaj materialoj kiel kondukta vitro.
La karakterizaĵo de elektronradiovaporiĝo estas ke ĝi ne aŭ malofte kovros la du flankojn de la cela tridimensia strukturo, kaj kutime nur enpagoj sur la celsurfaco.Ĉi tio estas la diferenco inter elektronradia vaporiĝo kaj ŝprucado.
Elektronradiovaporiĝo estas ofte uzita en la kampo de semikonduktaĵesplorado kaj industrio.La akcelita elektrona energio estas uzata por frapi la materian celon, igante la materialan celon vaporiĝi kaj pliiĝi.Poste deponite sur la celo.
Afiŝtempo: Dec-02-2022